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Heidolph 海道夫加熱型磁力攪拌器MR Hei-End

簡要描述:Heidolph 海道夫加熱型磁力攪拌器MR Hei-End可根據(jù)需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤 操作方面,數(shù)字顯示,帶背景燈 800W的加熱能力,快速加熱 轉(zhuǎn)速Z大可達(dá)到14,000rpm 強(qiáng)大磁力,輕松驅(qū)動(dòng)攪拌子 Z多可攪拌20L水 免維護(hù)的發(fā)動(dòng)機(jī),啟動(dòng)順暢 溫度調(diào)節(jié)精度可至1℃ 高效率驅(qū)動(dòng),低效率消耗 包裹防腐蝕材料的硅合金機(jī)身,持久耐用

  • 產(chǎn)品型號(hào):MR Hei-End
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2024-01-26
  • 訪  問  量:1021

MR Hei-EndHeidolph 海道夫加熱型磁力攪拌器MR Hei-End的詳細(xì)資料:



Heidolph 海道夫加熱型磁力攪拌器MR Hei-End

加熱型磁力攪拌器MR Hei-End

高安全性能

• 800W加熱功率 (600 W 于 115/100 V)

•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金

•優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能

•優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能

•加熱盤直徑: 145 mm

•通過兩個(gè)獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能

•預(yù)設(shè)溫差△T, 當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)到預(yù)設(shè)定的溫度差時(shí)

•獨(dú)立線路開關(guān)自動(dòng)停止加熱

•避免錯(cuò)誤的溫度設(shè)定

Heidolph 海道夫加熱型磁力攪拌器MR Hei-End

•速度范圍: 30 - 1,400 rpm

•出眾的溫度控制精度: ±1 %

•數(shù)字顯示速度和溫度(包括設(shè)定值和實(shí)際值)

•加熱盤溫度范圍: 20 - 300 °C

•介質(zhì)溫度范圍:zui高 250

•精確溫度設(shè)定:±1K

•當(dāng)停止加熱時(shí), 加熱盤溫度仍高到50°C, 顯示屏上顯示加熱盤的殘留熱量

•照明開關(guān)

•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命

•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動(dòng)機(jī)

•加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動(dòng)機(jī), 驅(qū)動(dòng)攪拌子輕而易舉

•優(yōu)秀的攪拌性能,處理量zui大達(dá) 20升( H2O)

加熱型磁力攪拌器MR Tec/Tec

適用于更高實(shí)驗(yàn)要求

MR Hei-Tec

•800 W加熱功率 (600 W 于 115/100 V)

•數(shù)字顯示設(shè)定溫度和實(shí)際溫度

•加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C

•介質(zhì)溫度范圍: zui高達(dá) 250°C

•速度范圍: 100 - 1,400 rpm

•速度控制精度:±2 %

•通過兩個(gè)獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能

•當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)50°C時(shí),獨(dú)立線路開關(guān)自動(dòng)停止加熱

•照明開關(guān)

•電子溫度控制

(選配 EKT Hei-Con)

•精確溫度設(shè)定: ±1K

(選配 EKT Hei-Con)

•介質(zhì)溫度控制精度: ±1K

(選配 EKT Hei-Con)

•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命

•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動(dòng)機(jī)

•加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動(dòng)機(jī), 驅(qū)動(dòng)攪拌子輕而易舉

•優(yōu)秀的攪拌性能,處理量zui大達(dá) 20升( H2O)

MR Hei-Tec

•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金

- 優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能

- 優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能

•加熱盤直徑: 145 mm

MR Hei-Tec [ ]

•與 MR Hei-Tec 參數(shù)*

•正方形加熱盤

•加熱盤由瓷釉涂層硅鋁合金制備而成

•加熱盤尺寸 w x d (mm): 132 x 132

加熱型磁力攪拌器MR Standard

適用于任何實(shí)驗(yàn)室的標(biāo)準(zhǔn)攪拌器

MR Hei-Standard

• 800 W 加熱功率 (600 W 于 115/100 V)

•加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C

•介質(zhì)溫度范圍: zui高達(dá) 250°C

•速度范圍: 100 - 1,400 rpm

•速度控制精度:±2 %

•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金

- 優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能

- 優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能

•加熱盤直徑: 145 mm

•通過兩個(gè)獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能

•當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)50°C時(shí),獨(dú)立線路開關(guān)自動(dòng)停止加熱

•電子溫度控制

(選配 EKT Hei-Con)

•精確溫度設(shè)定: ±1K

(選配 EKT Hei-Con)

•介質(zhì)溫度控制精度: ±1K

(選配 EKT Hei-Con)

•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命

•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動(dòng)機(jī)

•加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動(dòng)機(jī), 驅(qū)動(dòng)攪拌子輕而易舉

•優(yōu)秀的攪拌性能,處理量zui大達(dá) 20升( H2O)

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